近期，資本市場對于光刻機的關注持續火熱。此前受益于“光刻機”概念，張江高科等多股連續上漲。

9月14日，隨著蘇大維格在互動易回復光刻機相關問題，“納米壓印”概念迅速火熱。午后，蘇大維格股價迅速拉升，并實現20%漲停。

彼時，蘇大維格表示：“公司光刻機已實現向國內龍頭芯片企業的銷售，并已實現向日本、韓國、以色列等國家的出口；同時，公司向國內相關芯片光刻機廠商提供了定位光柵尺部件。”

據蘇大維格在互動易所述，其光刻機產品為激光直寫光刻機。對于該類型光刻機的用途，記者9月15日咨詢了與非網副主編夏珍，其表示：“據我所知，激光直寫光刻機是用于掩膜版的制造，替代傳統的鉻玻璃掩膜版，具有靈活性高的特點，與平常我們所說的光刻機不是一回事兒。”

9月15日早間，蘇大維格便收到深交所關注函。不過，截至午間收盤，蘇大維格報37.47元/股，上漲13.13%。

此光刻機非彼光刻機

傳統光刻機包括EUV（極紫外）光刻機、DUV（深紫外）光刻機。此外，更早也有i線和g線光刻機。上述均屬于較為先進的半導體光刻機。除了半導體用，光刻機也用于面板、PCB（印刷電路板）的制造中。

自蘇大維格稱已實現向國內龍頭芯片企業的銷售后，有投資者也追問：“公司光刻設備對比全世界同行業處于什么階段？未來有沒有和國內同行合作研發制造光刻機計劃？”

對此，蘇大維格解釋：“在大類上，光刻機主要有兩種類型。第一類是掩膜光刻機，如ASML的EUV設備，好比‘復印機’，把掩膜上的圖形投射到硅片上，可用于各類芯片的批量生產，這類光刻機技術工藝和材料難度極高；第二類是無掩膜光刻機，也稱直寫光刻機，包括激光直寫光刻機和電子束光刻機等，用于直接將數據轉變成相關圖形，好比‘打印機’，可用于芯片/液晶掩膜、光模具及其他微結構的制備。”

關注函中，深交所也要求蘇大維格結合不同類型光刻設備的技術路線的差異，補充披露公司所生產光刻設備的具體類型、主要客戶及下游用途、以及最近一年一期境內外銷售情況，并核實說明公司光刻設備是否能夠直接用于芯片研發及制造、主要技術參數是否與業內龍頭廠商存在較大差距，并進一步提示相關風險。

在上述投資者關系平臺回復中，蘇大維格曾表示：“目前，公司對外銷售的光刻機主要為激光直寫光刻機，其中在科研教育領域具有一定的知名度和市場占有率，在其他行業和領域已實現的銷售金額相對較小，部分應用領域離國際先進水平具有一定差距，需要持續的研發投入。”

“納米壓印”能否替代傳統光刻？

除了光刻機的銷售信息，蘇大維格9月14日還提及“納米壓印”技術。在回復“納米壓印技術有沒有替代EUV光刻機的可能性”時，蘇大維格稱：“根據相關資訊，佳能等國際廠商擬試圖通過納米壓印技術在部分集成電路領域替代EUV光刻設備實現更低成本的芯片量產。”

此外，蘇大維格也表示：“納米壓印光刻領域，公司設備主要為自用，對外銷售金額與直寫光刻機相比較小。”

也就是說，蘇大維格對外銷售的光刻機主要是直寫光刻機，納米壓印主要是自用。

那么，蘇大維格自身擁有“納米壓印”技術嗎？深交所要求其說明：“你公司納米壓印技術的具體用途、研發情況，以及在集成電路領域的布局情況，并充分提示相關風險。”

關于納米壓印技術能否替代EUV光刻機，夏珍向記者解釋：“納米壓印可潛在替代EUV、DUV。當DUV（技術）再往下走，日本廠商并沒有選擇EUV，而是采用了‘納米壓印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技術，來開發新一代的設備。納米壓印技術和現在市場上的光刻技術有所不同。基于光學的曝光機，也就是我們常說的光刻機，從Reticle（掩膜版）到晶圓是4：1的縮小比例，而納米壓印技術下的Reticle選用特殊加工方法，從Reticle到晶圓是等比例的。這意味著只要Reticle能做到5nm，就能壓印出5nm的東西。”

夏珍補充表示：“此外，采用納米壓印技術的成本較低，低成本主要體現在兩個方面，一是設備本身的成本低，二是在使用的過程中用電量低。”

那么，納米壓印技術目前進展如何呢？夏珍介紹：“目前基于納米壓印技術的設備還沒量產，處于量產評價階段，但從實驗室的角度來看，已經實現了10+nm，未來將進一步拓展至5nm。”